Samsung ще инвестира в производителя на чипове ASML
Инвестицията ще ускори въвеждането на нови технологии в производството на чипове


Александър Чавдаров

Всяка делнична вечер получавате трите най-четени статии от деня, заедно с още три, препоръчани от редакторите на "Капитал"
Производителят на чипове ASML обяви, че очаква инвестиция от Samsung Electronics в размер на 975 млн. долара. В допълнение южнокорейската компания ще закупи и 3% от акциите на ASML, предаде агенция Reuters.
Базираната в Холандия компания вече сключи подобни сделки с Intel и Taiwan Semiconductor Manufacturing Co (TSMC), припомня агенцията.
Статиите от архива на Капитал са достъпни само за потребители с активен абонамент.
Абонирайте сеВъзползвайте се от специалната ни оферта за пробен абонамент
2 лв. / седмица за 12 седмици * Към офертата
* Aбонамент за Капитал - 2 лв./седмица през първите 12 седмици, а след това - 7.25 лв./седмица. Абонаментът Ви ще бъде подновяван автоматично и таксуван на месечна база. Може да прекратите по всяко време. Само за нови абонати, физически лица.
4 коментара
Когато такива инвеститори се появят тук, да знаете, че вече сме се оправили.
Само да спделя, че ASML не са производители на чипове, както пише навсякъде в статията, а на системи, които се продават на производителите на чипове, но като статиите в Капитал трябва да са евтини, няма как пишещият да го знае.
До коментар [#2] от "ddd":
ЛОЛ. +1. ASML е производител на equipment за производители на чипове. Евентуално "Капитал" можехте и да споменете за паралелната инветиция в MAPPER Lithography, друга холандска компания за equipment, от няколко инвеститори като холандското правителство, фондове за private equity и руският квази-държавен $10милиарден фонд РОСНАНО, управляван от Анатоли Чубайс. Повече инфо: http://bit.ly/ToJZNT
Ето и малко повече информация:
за моментното производство на чипове се използват ексимерни лазери, които излъчват UV с дължина на вълната 196 nm. Според конвенционалната оптика не е възможно да фокусираш това лъчение в петно по-малко от 196 nm. За намаляване на елементите в чиповете се използват специални оптични трикове(off-side illumination, immersion), с които успяват да се произведат сегашните чипове на 32 nm и последващото поколение на 22 nm. Тези трикове обаче не могат да намалят повече размерите на елементите поради вълновата природа на светлината.
ASML се опитват да прокарат изцяло нова технология, която се нарича EUV Lithography, което ще рече да използват нов източник на 14 nm. Този източник обаче е плазма от калай (Sn), която наред с лъчението генерира йони и горещи капчици калай, които попадат в оптиката. Тази оптика пък не отазява, защото почти всичко поглъща този диапазин от спектъра. Освен това, когато се намалят размерите на елементите, отвеждането на топлината е много трудна задача, да не говорим, че се работи във вакуум, защото EUV йонизира въздуха. Като следствие, тази технология има много висок "cost of ownership", или иначе казано един чип излиза скъп, вседствие на което вече няколко години се цикли и явно големите братя са решили да се включат.
Нов коментар
За да публикувате коментари,
трябва да сте регистриран потребител.